An experimental analysis of localized lifetime and resistivity control by helium implant in Si / Daliento, Santolo; L., Mele; Spirito, Paolo; Gialanella, Lucio; Romano, Mario; B. N., Limata; R., Carta; L., Bellemo. - STAMPA. - (2005), pp. 22-26. (Intervento presentato al convegno ISPSD 05 tenutosi a Santa Barbara CA nel Maggio 2005).

An experimental analysis of localized lifetime and resistivity control by helium implant in Si

DALIENTO, SANTOLO;SPIRITO, PAOLO;GIALANELLA, LUCIO;ROMANO, MARIO;
2005

2005
9780780388895
An experimental analysis of localized lifetime and resistivity control by helium implant in Si / Daliento, Santolo; L., Mele; Spirito, Paolo; Gialanella, Lucio; Romano, Mario; B. N., Limata; R., Carta; L., Bellemo. - STAMPA. - (2005), pp. 22-26. (Intervento presentato al convegno ISPSD 05 tenutosi a Santa Barbara CA nel Maggio 2005).
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11588/311482
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact