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Ultrafast science and development at the Artemis facility / Valentin I., Vlad; I. C., Edmond Turcu; Emma, Springate; Chris A., Froud; Cephise M., Cacho; John L., Collier; William A., Bryan; G. R. A., Jamie Nemeth; Jon P., Marangos; John W. G., Tisch; Ricardo, Torres; Thomas, Siegel; Leonardo, Brugnera; Jonathan G., Underwood; Immacolata, Procino; W., Roy Newell; Altucci, Carlo; Velotta, Raffaele; Raymond B., King; John D., Alexander; Chris R., Calvert; Orla, Kelly; Jason B., Greenwood; Ian D., Williams; Andrea, Cavalleri; Jesse C., Petersen; Nicky, Dean; Sarnjeet S., Dhesi; Luca, Poletto; Paolo, Villoresi; Fabio, Frassetto; Stefano, Bonora; Mark D., Roper. - ELETTRONICO. - (2009), pp. 746902-746902-15. (Intervento presentato al convegno 9th Conference on Optics - Micro- to Nanophotonics II tenutosi a Sibiu, ROMANIA nel AUG 31-SEP 03, 2009) [10.1117/12.867540].
Ultrafast science and development at the Artemis facility
Valentin I. Vlad;I. C. Edmond Turcu;Emma Springate;Chris A. Froud;Cephise M. Cacho;John L. Collier;William A. Bryan;G. R. A. Jamie Nemeth;Jon P. Marangos;John W. G. Tisch;Ricardo Torres;Thomas Siegel;Leonardo Brugnera;Jonathan G. Underwood;Immacolata Procino;W. Roy Newell;ALTUCCI, CARLO;VELOTTA, RAFFAELE;Raymond B. King;John D. Alexander;Chris R. Calvert;Orla Kelly;Jason B. Greenwood;Ian D. Williams;Andrea Cavalleri;Jesse C. Petersen;Nicky Dean;Sarnjeet S. Dhesi;Luca Poletto;Paolo Villoresi;Fabio Frassetto;Stefano Bonora;Mark D. Roper
Ultrafast science and development at the Artemis facility / Valentin I., Vlad; I. C., Edmond Turcu; Emma, Springate; Chris A., Froud; Cephise M., Cacho; John L., Collier; William A., Bryan; G. R. A., Jamie Nemeth; Jon P., Marangos; John W. G., Tisch; Ricardo, Torres; Thomas, Siegel; Leonardo, Brugnera; Jonathan G., Underwood; Immacolata, Procino; W., Roy Newell; Altucci, Carlo; Velotta, Raffaele; Raymond B., King; John D., Alexander; Chris R., Calvert; Orla, Kelly; Jason B., Greenwood; Ian D., Williams; Andrea, Cavalleri; Jesse C., Petersen; Nicky, Dean; Sarnjeet S., Dhesi; Luca, Poletto; Paolo, Villoresi; Fabio, Frassetto; Stefano, Bonora; Mark D., Roper. - ELETTRONICO. - (2009), pp. 746902-746902-15. (Intervento presentato al convegno 9th Conference on Optics - Micro- to Nanophotonics II tenutosi a Sibiu, ROMANIA nel AUG 31-SEP 03, 2009) [10.1117/12.867540].
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11588/517362
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
