Influence of rf power on the properties of nanostructured silicon-carbon films deposited by PECVD / Coscia, U., Ambrosone, G., D. K., B., P., R., S., F., A., V., M., T.. - In: PHYSICA STATUS SOLIDI. C. - ISSN 1610-1642. - 8:(2011), pp. 823-826. [10.1002/pssc.201000299]
Influence of rf power on the properties of nanostructured silicon-carbon films deposited by PECVD
COSCIA, UBALDO;AMBROSONE, GIUSEPPINA;
2011
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.


