Characterizations of nanostructured silicon-carbon films deposited on p-layer by PECVD / Coscia, U., Ambrosone, G., D. K., B., S., F., P., D.V., L. V., M., I., U., M., T.. - In: PHYSICA STATUS SOLIDI. C. - ISSN 1610-1642. - ELETTRONICO. - 7:(2010), pp. 766-769. [10.1002/pssc.200982675]
Characterizations of nanostructured silicon-carbon films deposited on p-layer by PECVD
COSCIA, UBALDO;AMBROSONE, GIUSEPPINA;
2010
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.


