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A benchmark study on the thermal conductivity of nanofluids / Jacopo, Buongiorno; David C., Venerus; Naveen, Prabhat; Thomas, Mckrell; Jessica, Townsend; Rebecca, Christianson; Yuriy V., Tolmachev; Pawel, Keblinski; Lin wen, Hu; Jorge L., Alvarado; In Cheol, Bang; Sandra W., Bishnoi; Marco, Bonetti; Frank, Botz; Cecere, Anselmo; Yun, Chang; Gang, Chen; Haisheng, Chen; Sung Jae, Chung; Minking K., Chyu; Sarit K., Das; Roberto Di, Paola; Yulong, Ding; Frank, Dubois; Grzegorz, Dzido; Jacob, Eapen; Werner, Escher; Denis, Funfschilling; Quentin, Galand; Jinwei, Gao; Patricia E., Gharagozloo; Kenneth E., Goodson; Jorge Gustavo, Gutierrez; Haiping, Hong; Mark, Horton; Kyo Sik, Hwang; Carlo S., Iorio; Seok Pil, Jang; Andrzej B., Jarzebski; Yiran, Jiang; Liwen, Jin; Stephan, Kabelac; Aravind, Kamath; Mark A., Kedzierski; Lim Geok, Kieng; Chongyoup, Kim; Ji Hyun, Kim; Seokwon, Kim; Seung Hyun, Lee; Kai Choong, Leong; Indranil, Manna; Bruno, Michel; Rui, Ni; Hrishikesh E., Patel; John, Philip; Dimos, Poulikakos; Cecile, Reynaud; Savino, Raffaele; Pawan K., Singh; Pengxiang, Song; Thirumalachari, Sundararajan; Elena, Timofeeva; Todd, Tritcak; Aleksandr N., Turanov; Stefan Van, Vaerenbergh; Dongsheng, Wen; Sanjeeva, Witharana; Chun, Yang; Wei Hsun, Yeh; Xiao Zheng, Zhao; Sheng Qi, Zhou. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - ELETTRONICO. - 106:9(2009), pp. 094312-094326. [10.1063/1.3245330]
A benchmark study on the thermal conductivity of nanofluids
Jacopo Buongiorno;David C. Venerus;Naveen Prabhat;Thomas McKrell;Jessica Townsend;Rebecca Christianson;Yuriy V. Tolmachev;Pawel Keblinski;Lin wen Hu;Jorge L. Alvarado;In Cheol Bang;Sandra W. Bishnoi;Marco Bonetti;Frank Botz;CECERE, ANSELMO;Yun Chang;Gang Chen;Haisheng Chen;Sung Jae Chung;Minking K. Chyu;Sarit K. Das;Roberto Di Paola;Yulong Ding;Frank Dubois;Grzegorz Dzido;Jacob Eapen;Werner Escher;Denis Funfschilling;Quentin Galand;Jinwei Gao;Patricia E. Gharagozloo;Kenneth E. Goodson;Jorge Gustavo Gutierrez;Haiping Hong;Mark Horton;Kyo Sik Hwang;Carlo S. Iorio;Seok Pil Jang;Andrzej B. Jarzebski;Yiran Jiang;Liwen Jin;Stephan Kabelac;Aravind Kamath;Mark A. Kedzierski;Lim Geok Kieng;Chongyoup Kim;Ji Hyun Kim;Seokwon Kim;Seung Hyun Lee;Kai Choong Leong;Indranil Manna;Bruno Michel;Rui Ni;Hrishikesh E. Patel;John Philip;Dimos Poulikakos;Cecile Reynaud;SAVINO, RAFFAELE;Pawan K. Singh;Pengxiang Song;Thirumalachari Sundararajan;Elena Timofeeva;Todd Tritcak;Aleksandr N. Turanov;Stefan Van Vaerenbergh;Dongsheng Wen;Sanjeeva Witharana;Chun Yang;Wei Hsun Yeh;Xiao Zheng Zhao;Sheng Qi Zhou
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.