Dopant profiling in silicon wafers by Fourier Transform Infrared Spectroscopy / R., Bernini; Breglio, Giovanni; A., Cutolo; Irace, Andrea; G., Persiano; L., Zeni. - STAMPA. - (2002), pp. 507-511. (Intervento presentato al convegno 11th International Symposium on Nondestructive Characterization of Materials tenutosi a Berlin nel 24-28 June 2002).
Dopant profiling in silicon wafers by Fourier Transform Infrared Spectroscopy
BREGLIO, GIOVANNI;IRACE, ANDREA;
2002
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