Dopant profiling in silicon wafers by Fourier Transform Infrared Spectroscopy / R., B., Breglio, G., A., C., Irace, A., G., P., L., Z.. - STAMPA. - (2002), pp. 507-511. (11th International Symposium on Nondestructive Characterization of Materials Berlin 24-28 June 2002).
Dopant profiling in silicon wafers by Fourier Transform Infrared Spectroscopy
BREGLIO, GIOVANNI;IRACE, ANDREA;
2002
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